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イオン導入〜にきび跡治療法

イオン導入とは、イオントフォレーシスともいい、皮膚に微弱な電流を流すことで、水溶性の有効成分を肌の奥深く（真皮層）まで効果的に導入する方法です。

肌の表面にはバリア機能があるために、せっかく有効成分を塗っても、肌の深部まで届けることができません。微弱な電流の力を使うと、有効成分がバリア機能を通り抜け、肌の奥深くの真皮層たっぷり栄養を届けることができるんです。

イオン導入の仕組みは、マイナスの電極を顔の皮膚にあて、プラスの電極を手に持って電流を流すと、水に溶ける際にマイナスに帯電するイオン（ビタミンC誘導体、プラセンタなど）が、皮膚に当てたマイナスの電極からの反発力によって皮膚の奥の層へと浸透していきます。

ケミカルピーリングやフォトフェイシャル治療直後のイオン導入は、特に効果的といわれています。高濃度ビタミンC誘導体とプラセンタ原液のイオン導入は、即効性があり、あらゆる肌の悩みを効果的に解決します。

イオン導入によって肌へ浸透できるのは、主に小さな分子量のものだけで、コラーゲンやヒアルロン酸などの巨大分子は肌の中へ浸透することは出来ません。


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